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窒素製造装置

窒素製造装置
窒素製造装置は弊社が1960年代より改良を重ね、高性能化・シリーズ化を進めてきました。現在では化学、硝子、繊維、金属、食品などの一般産業向けに開発されたタイプ、半導体産業用の高純度タイプ、小規模需要に対応したコンパクトタイプなどの多彩なラインアップで、あらゆる産業のご要望にお応えします。

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関連 - サービス・事業別

半導体関連特殊ガス宇宙・航空関連プラント関連環境貢献製商品

関連 - 業界・業種別

鉄鋼・非鉄輸送機器・機械宇宙・航空建設化学半導体・電子部品食品生命科学・医療環境・エネルギーその他

関連 - 目的・用途別

窒素を使用したい酸素を使用したい酸化を防止したい燃焼効果を向上したい凍結・冷却をしたい熱処理をしたい爆発・燃焼を防止したい高圧ガスを安全に使いたい乾燥させたい真空環境を作りたいガスを作りたいガスを精製したい安全にガスを使用・消費したいガス供給現場を省人化したい医療関係で使用したい温室効果ガス排出量を削減したい

窒素製造装置のラインアップ

ラインアップ 型式 窒素ガス発生量
［Nm3/h］		 液化窒素発生量
［Nm3/h］		 圧力［MPaG］ 純度［ppm］
JNシリーズ JNC JNC50 ～525 ― 0.6/0.75 O2≦1.0
JNF JNF80 ～830 ― 0.6/0.75/0.8 O2≦0.1
JNF130 ～1330 ― 0.6/0.75/0.8 O2≦0.1
JNR JNR150 ～1560 ― 0.75/0.8 O2≦0.01
GNシリーズ GNS GNS500 ～500 ～30 0.5～0.9 O2≦1.0
GNS1000 ～1000 ～30 0.5～0.9 O2≦1.0
GNS1500 ～1500 ～30 0.5～0.9 O2≦1.0
GNS3000 ～3000 ～30 0.5～0.9 O2≦1.0
GNS4000 ～4000 ～30 0.5～0.9 O2≦1.0
GND GND2000 ～2000 ― 0.7～0.95 O2≦1.0
GND3000 ～3000 ― 0.7～0.95 O2≦1.0
GND4000 ～4000 ― 0.7～0.95 O2≦1.0
GND5000 ～5000 ― 0.7～0.95 O2≦1.0
GND6000 ～6000 ― 0.7～0.95 O2≦1.0

JNC

シリーズ名 JNC50
周波数［Hz］ 50 60
圧力［MPaG］ 0.6 0.75 0.6 0.75
発生量［Nm3/h］ 523 453 525 493
純度 O2≦1.0ppm

JNF

シリーズ名 JNF80 JNF130
周波数［Hz］ 50/60
圧力［MPaG］ 0.6 0.75 0.8 0.6 0.75 0.8
発生量［Nm3/h］ 830 775 760 1330 1250 1220
純度 O2≦0.1ppm

JNR

シリーズ名 JNR150
周波数［Hz］ 50/60
圧力［MPaG］ 0.75 0.8
発生量［Nm3/h］ 1560 1560
純度 O2≦0.01ppm

GNS

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業界・業種別
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