水素除去装置 -プラント・エンジニアリング分野

液化ヘリウムの原料ガス中の水素成分を、常温のゲッター剤で除去（登録特許第5074433号）

本特許は、ヘリウム液化装置の原料であるヘリウムガス中に含まれる水素ガス成分を除去する装置に関するものです。

ヘリウムガスを液化するにあたり、この液化装置の前段に設けられた精製装置において除去できない水素ガス成分は、液化装置内において閉塞による不具合の原因となります。
本装置では、この水素ガス成分を、常温のゲッター剤で除去できます。また、これまで必要であった、吸着材またはゲッター剤を冷却もしくは加熱させる装置が不要となり、装置はコンパクトとなりました。