高圧且つ高純度の窒素ガス供給装置及び供給方法 -産業ガス分野
昇圧機で吐出したガスを吸入側に戻すことで、ガス供給量の増減に対応可能（登録特許第5518503号）
本特許は、レーザー加工機等で必要とされる高圧・高純度の窒素ガスを負荷変動に追従して安定的に供給するための装置と方法に関する発明です。
本発明では、PSA式窒素ガス発生装置の後段に昇圧機を置き、昇圧機の吐出側から吸入側へガスを送る返送経路とその返送経路に圧力調整器を設けることで、吸入側の圧力が低下した場合に、一度昇圧された吐出側のガスを吸入側に戻すことができるようにしています。
例えば、「窒素ガス発生量」＜「昇圧機昇圧量」となった場合に、昇圧機の吸込み不足により吸込み圧力が低下し、昇圧機が起動しないことを回避することができます。
このような手段により、ガス使用量の変動に弱いPSA式窒素発生装置からのガスを、使用量が一時的に増大した場合においても高圧・高純度の窒素ガスを安定的に供給することができます。
特長
- 装置の大型化やイニシャルコストを抑えつつ、高圧・高純度の窒素ガスを安定的に供給することができます。
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