日本酸素ホールディングスグループの日本産業ガス事業会社である大陽日酸株式会社（本社：東京都品川区 代表取締役社長：永田 研二）は、米国のサウスカロライナ大学に当社製 MOCVD装置^※1を納入することが決定しましたのでお知らせいたします。

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　サウスカロライナ大学が採用した当社製MOCVD装置（型式：SR-4000HT）は、パワーエレクトロニクス等のデバイス技術に必須となる高品質なアルミニウムナイトライド(AlGaN)やその他のワイドバンドギャップ半導体^※2製造に用いられ、窒化物半導体の開発に貢献することが期待されます。

　当社は同大学と協力し、先進的な窒化物半導体デバイスの研究開発を支援することで、当社製MOCVD装置のグローバル市場に対する優位性が促進されると期待しています。

※1 MOCVD（Metal Organic Chemical Vapor Deposition）装置：原料に有機金属やガスを用いながら基板上に化合物半導体の成膜を行う装置。
※2 ワイドバンドギャップ半導体：窒化アルミニウムなど、電子やホールが価電子帯から伝導体に遷移するためのエネルギー値が高い半導体。その特性は、高温での動作や高電圧での動作に優れ、高電力・高周波アプリケーションや高温環境での使用に適しているとされている。

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