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41～60（All103）

スーパーサンアーク
各種の溶接用途に最適なガスを提供し、生産性向上、コストダウンを実現します。
MOサンアーク
各種の溶接用途に最適なガスを提供し、生産性向上、コストダウンを実現します。
PHサンアーク
各種の溶接用途に最適なガスを提供し、生産性向上、コストダウンを実現します。
ブライトサンアーク
各種の溶接用途に最適なガスを提供し、生産性向上、コストダウンを実現します。
AHサンアーク
各種の溶接用途に最適なガスを提供し、生産性向上、コストダウンを実現します。
フラッシュサンアーク
各種の溶接用途に最適なガスを提供し、生産性向上、コストダウンを実現します。
SCサンアーク
各種の溶接用途に最適なガスを提供し、生産性向上、コストダウンを実現します。
Hi-Speed PHサンアーク
各種の溶接用途に最適なガスを提供し、生産性向上、コストダウンを実現します。
SDS（セイフ・デリバリー・ソース）
半導体・液晶前工程にてご使用されるイオン注入に最適な荷姿・容量にてご提供します。
空気分離装置
空気分離装置は空気を圧縮、冷却液化し、蒸留により酸素・窒素・アルゴンに分離する装置です。1935年、大陽日酸は、わが国初の空気分離装置の国産化に成功しました。豊富な経験と高度な技術力を活かし、鉄鋼・電力・銅精錬・化学・石油精製・硝子などのあらゆる分野の産業に対して、小型から超大型まであらゆる規模の空気分離装置を提供します。
窒素製造装置
窒素製造装置は弊社が1960年代より改良を重ね、高性能化・シリーズ化を進めてきました。現在では化学、硝子、繊維、金属、食品などの一般産業向けに開発されたタイプ、半導体産業用の高純度タイプ、小規模需要に対応したコンパクトタイプなどの多彩なラインアップで、あらゆる産業のご要望にお応えします。
ヘリウム液化冷凍機
1957年に往復動型膨張エンジンによるヘリウム液化機の製作・販売を開始し、以来、多くの大学・研究機関に各種ヘリウム液化機を納入しています。1977年にはスイス・リンデクライオテクニーク社（前スルザー社）と技術・販売契約を締結し、大陽日酸の高度なエンジニアリング能力とリンデ社のガスベアリング式膨張タービンの採用により、幅広い分野の各種ニーズに応えています。
MOCVD装置
MOCVD（Metal Organic Chemical Vapor Deposition）装置とは、原料に有機金属やガスを用いながら化合物半導体の成膜を行う装置のことです。近年、LEDやスマートフォン、自動運転システムを搭載した電気自動車が社会を劇的に豊かにしています。これらの画期的なデバイスの中核をなす材料として、化合物半導体は不可欠な材料であり、化合物半導体の製造には当社のようなMOCVD装置が必要とされています。当社は1983年に自社開発の商業用MOCVDを世界で初めて導入しました。現在では用途（研究用、量産用）、原料（GaN（窒化ガリウム）、Ga2O3（酸化ガリウム）、GaAs/InP（ガリウムヒ素/インジウムリン））、ウェハサイズ・枚数（2インチ×単数・複数枚）等によって、様々なタイプの装置を研究・製造・販売しています。
ヘリウムコンテナ
大陽日酸は11,000ガロンの液体ヘリウムを輸送・貯蔵できるコンテナを1991年より製作しています。大陽日酸が誇る超低温、真空技術を駆使し、侵入熱を最小限にする高真空多層断熱技術と特殊サポート技術が使われています。
ガス供給システム
ガス供給システムは液化窒素（-196℃）や液化酸素（-183℃）などの低温液化ガスを貯蔵する液化ガス貯槽と、液化ガスを気化昇温させる蒸発器から構成され、必要に応じて低温の液体または気化させた常温のガスとして送り出す装置です。 この産業ガス供給システムの身近な使われ方として、液化窒素を使い瞬時に食品を冷凍することで、食品の細胞を破壊することなく美味しさを閉じ込めた冷凍食品を作るシステム、病院では清浄な医療用酸素ガスを供給するシステム、アトラクション等において幻想的な雰囲気を演出させる白煙発生装置などに応用されています。
保安サービス
「みんなガスシル」とは、「ガスシルラーニング」と「ガスシルアカデミー」と「ガスシルサロン」を組み合わせた保安力向上パッケージサービスです！ 高圧ガスを取り扱われる事業所全体の皆様が「安心・安全」に働ける職場づくりを実現します！
酸素O2
酸素は無色・無味・無臭のガスで、空気の約21%（容積比）を占めています。化学的にはきわめて活性が高く、他のものを酸化する（つまり、燃やす）力が強く、多くの元素と化合します。また、呼吸により生物の生命維持に不可欠な役割を果たしています。 燃やしたり酸化させる性質を利用して、鉄鋼業などで炉の吹き込みなどに使われるほか、鋼材の溶接・切断に、化学分野での酸化反応工程などに使用されます。また、医療分野での酸素吸入、環境対策のための排水処理、ロケットの推進剤など、広範な分野で使われています。
溶融マグネシウム合金カバーガス「MGシールド」
エムジーシールドは溶融マグネシウム合金の酸化燃焼防止に用いられるカバーガスです。一般的なマグネシウム溶融用カバーガスであるSF6に比べ、エムジーシールドはボンベ1本当り、約1/22,800もの二酸化炭素排出削減効果があります。
水素H2
水素は可燃性のガスで、地球上の元素の中では最も軽い気体です。また、熱伝導が非常に大きく、粘性が小さく、急速に拡散します。製造方法は多種ありますが、工業的には天然ガスやナフサなどの化石燃料を原料とした製造が主流です。用途はロケットの推進剤、自動車のクリーンエネルギーのほか、光ファイバーの製造、半導体分野でも幅広く利用されています。
ヘリウムHe
ヘリウムは、不活性で通常の状態では他の元素や化合物と結合せず、液体にすると最も低温なガスです。空気中の含有量が低いため、製造コストを考慮し、ヘリウムが約0.5%以上含まれる天然ガスの副産物として製造されます。主には、MRI（磁気共鳴画像）装置の電動コイルの冷却用、光ファイバー焼結用の雰囲気ガス、呼吸用混合ガス（ダイビングガス）などで利用されています。

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