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半導体・液晶前工程にてご使用されるイオン注入に最適な荷姿・容量にてご提供します。
1957年に往復動型膨張エンジンによるヘリウム液化機の製作・販売を開始し、以来、多くの大学・研究機関に各種ヘリウム液化機を納入しています。1977年にはスイス・リンデクライオテクニーク社(前スルザー社)と技術・販売契約を締結し、大陽日酸の高度なエンジニアリング能力とリンデ社のガスベアリング式膨張タービンの採用により、幅広い分野の各種ニーズに応えています。
大陽日酸は11,000ガロンの液体ヘリウムを輸送・貯蔵できるコンテナを1991年より製作しています。大陽日酸が誇る超低温、真空技術を駆使し、侵入熱を最小限にする高真空多層断熱技術と特殊サポート技術が使われています。
ガス供給システムは液化窒素(-196℃)や液化酸素(-183℃)などの低温液化ガスを貯蔵する液化ガス貯槽と、液化ガスを気化昇温させる蒸発器から構成され、必要に応じて低温の液体または気化させた常温のガスとして送り出す装置です。 この産業ガス供給システムの身近な使われ方として、液化窒素を使い瞬時に食品を冷凍することで、食品の細胞を破壊することなく美味しさを閉じ込めた冷凍食品を作るシステム、病院では清浄な医療用酸素ガスを供給するシステム、アトラクション等において幻想的な雰囲気を演出させる白煙発生装置などに応用されています。
酸素は無色・無味・無臭のガスで、空気の約21%(容積比)を占めています。化学的にはきわめて活性が高く、他のものを酸化する(つまり、燃やす)力が強く、多くの元素と化合します。また、呼吸により生物の生命維持に不可欠な役割を果たしています。 燃やしたり酸化させる性質を利用して、鉄鋼業などで炉の吹き込みなどに使われるほか、鋼材の溶接・切断に、化学分野での酸化反応工程などに使用されます。また、医療分野での酸素吸入、環境対策のための排水処理、ロケットの推進剤など、広範な分野で使われています。
水素は可燃性のガスで、地球上の元素の中では最も軽い気体です。また、熱伝導が非常に大きく、粘性が小さく、急速に拡散します。製造方法は多種ありますが、工業的には天然ガスやナフサなどの化石燃料を原料とした製造が主流です。用途はロケットの推進剤、自動車のクリーンエネルギーのほか、光ファイバーの製造、半導体分野でも幅広く利用されています。
ヘリウムは、不活性で通常の状態では他の元素や化合物と結合せず、液体にすると最も低温なガスです。空気中の含有量が低いため、製造コストを考慮し、ヘリウムが約0.5%以上含まれる天然ガスの副産物として製造されます。主には、MRI(磁気共鳴画像)装置の電動コイルの冷却用、光ファイバー焼結用の雰囲気ガス、呼吸用混合ガス(ダイビングガス)などで利用されています。
炭酸ガスは水によく溶けて炭酸水になり、他の物質と反応しますが、乾いた状態では他の物質とほぼ反応しない不活性なガスです。主に石油化学・石油精製、または製鉄所などからの副生ガスを原料として、高純度の液化二酸化炭素が得られます。生活面では炭酸水やドライアイスが身近な存在ですが、その他には鋳造用砂型の造形、炭酸ガスの被包溶接、塗料、溶剤、消火剤、食品貯蔵、殺菌ガスなどに利用されています。
窒素は無色・無味・無臭のガスで、空気の約78%(容積比)を占めているほか、たんぱく質やアンモニアなどの窒素化合物として、自然界にたくさん存在しています。常温では化学的に不活性で、他の物と化合することはありません。不活性の性質を利用して、半導体製造や化学品の酸化防止、防爆での用途のほか、金属熱処理や食品の封入ガスとして利用されます。また、液化窒素は-196℃の極低温で冷凍食品製造装置、宇宙環境試験装置、超電導装置などで使われています。
アルゴンは無味・無臭のガスで空気中にわずか0.93%しか含まれていません。高温・高圧でも他の元素と化合しない、化学的にきわめて不活性な性質を持っています。その特性を利用して溶接をはじめ、半導体・鉄鋼などの分野で雰囲気用・金属精錬用などに使用されています。また、半導体の基板となるシリコン単結晶にも利用されます。
従来のバブラー式とは異なる、非多孔質中空糸膜モジュールを使用した膜透過方式(膜式)による新しいシステムの加湿装置です。
熱処理に関する技術サポートを提供します。「浸炭雰囲気の最適化、光輝・無酸化雰囲気の最適化、金属及びセラミックス等の脱脂・焼結雰囲気の最適化」
洗剤や研磨材を使用せず、ドライアイスの高速吹付により製品を傷付けることなく汚れ・バリ取りが可能に!残留物もゼロ!!
大陽日酸は窒素、酸素、水素、アルゴン、ヘリウムおよびアンモニア精製装置のトップカンパニーです。原料ガス中の酸素、二酸化炭素、一酸化炭素、水素および水分等の不純物成分を吸着除去して、対象ガスを超高純度に精製します。豊富なラインナップから最適な精製方式をご提供いたします。
お客様の生産工場・研究施設の規模やご使用されている特殊材料ガスに最適なシステムをご提供致します。
大陽日酸のガス分析技術を活かして開発した当社固有の微量酸素分析計です。黄燐を用いた分析によって安全かつ高反応、高速での測定を実現します。
半導体・液晶前工程にてご使用される高品位な材料ガスを用途毎(エピタキシャル成長、CVD、エッチングおよびイオン注入)に最適な荷姿・容量にてご提供します。
検査機器の校正、各種成分ガスの測定条件に応じてご提供致します。
特定不純物が一定濃度以下で保証された単成分の高純度ガスです。